TSUKUBA POWER ELECTRONICS LABORATORY
MENU
メニューを飛ばす
ホーム
研究室について
研究室について
主な研究設備
当研究室志望の方へ
卒業生の進路
アクセス
研究体制
研究体制
岩室 憲幸
矢野 裕司
磯部 高範
連携大学院
山口 浩
児島 一聡
所属学生
研究活動
研究業績
2023年度の研究業績
2022年度の研究業績
2021年度の研究業績
2020年度の研究業績
2019年度の研究業績
2018年度の研究業績
2017年度の研究業績
2016年度の研究業績
2015年度の研究業績
2014年度の研究業績
2013年度の研究業績
担当講義
ブログ
研究活動のひとコマ
レクリエーション
学会・対外発表など
次世代パワー半導体の研究
HOME
»
次世代パワー半導体の研究
研究領域
新材料(炭化ケイ素:
SiC
など)を使った高性能パワー
半導体の
研究
研究テーマ
オン抵抗を極限まで低減する研究
新回路方式に適したデバイスの
研究
キーワード
超低抵抗、高信頼性、使いやすい
研究
TIA連携棟でのSiCパワー半導体の信頼性評価解析
最近の投稿
SEMICON Japan 2023に出展しました
富士電機株式会社東京工場を訪問しました
S2PC2023に参加しました!
ICSCRM2023に参加しました!
ECCE2023に参加しました!
Language
日本語
English